国内电路保护元器件行业有哪些发展优势?

国内电路保护元器件行业的发展优势包括: 1. 下游市场需求旺盛,电子产品更新换代带动了电路保护产业增长。 2. 行业技术含量高,技术领先的厂商能获得较高利润率,并保持对研发和设备的持续投入。 3. 生产地向中国集中,中国已成为世界电子产品的生产基地,并带动了行业的快速增长。 4. 国家产业政策扶持,电路保护元器件属于新型电子元器件,是国家鼓励发展的产业。

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2024-06

投资50亿欧元,意法半导体宣布在意大利建8英寸SiC晶圆厂

意法半导体宣布将在意大利卡塔尼亚投资50亿欧元建立一座200mm(8英寸)碳化硅(SiC)制造工厂,用于生产SiC功率器件和模块。这个SiC园区将整合从衬底开发到晶圆制造、模块组装和封装的所有步骤,意在提高产量和性能。这个项目是意法半导体全球碳化硅生态系统的中心,也是欧洲首个实现200nm碳化硅晶圆量产的工厂。意大利政府将在“欧洲芯片法案”框架内提供约20亿欧元的支持,该工厂计划于2026年量产,预计到2033年达到满负荷生产。

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ASML 证实今年将向台积电交付价值 3.8 亿美元的高 NA EUV 光刻机

ASML证实将向台积电交付价值3.8亿美元的高NA EUV光刻机,之前台积电曾表示不需此技术。台积电已改变观念,计划生产更高精度的芯片。ASML的High-NA光刻机有望降低66%的尺寸大小,提高芯片制造上限。台积电计划在2nm节点使用GAAFET晶体管。

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国产设备“零突破”!国产前道涂胶显影设备将首次进入OCF国际供应链!

国产前道涂胶显影设备将首次进入OCF国际供应链,这是国产设备的一次重大突破。芯达半导体设备(苏州)有限公司与吉林求是光谱数据科技有限公司合作,实现了涂胶显影设备的完全国产化,可替代国外进口产品。芯达半导体计划未来三年内完成14~28nm设备研发、生产、测试和销售,预计五年内的总研发投入将超亿元。该设备的研发和生产为国产光刻工艺的突破,尤其是光刻胶的进一步突破打下了良好的基础。

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三菱电机熊本SiC晶圆厂将提前5个月投运

三菱电机将在日本熊本建设新8英寸SiC晶圆厂,提前运营以应对市场需求增长。 应用于汽车和工业领域,有望提高电动汽车的行驶里程和整体节能效果。三菱电机计划扩大SiC的销售额比例,并加强相关生产设施。

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北京集成电路产教融合基地明年9月投用

北京集成电路产教融合基地项目正在建设中,预计将在2025年9月投入使用。这个基地位于北京经开区核心区,总建筑面积为105524平方米,将包含四栋地上11层、地下3层的教学科研楼。项目旨在提供一个集教学、科研和生活功能于一体的场所,最多可容纳2000人同时在校培训。建筑采用了一系列智能和绿色施工技术,包括BIM三维智能钢结构建模、智能建筑机器人、数字孪生可视化交付运维系统等,以提高建造水平和安全生产。这个基地的建设是深化产教融合、培养集成电路人才的重要措施,建设单位将确保工程进度和质量,将其打造成精品工程。

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